Ультразвукове фотоелектричне розпилення
Ультразвукове розпилення - це унікальна технологія атомізації, заснована на ультразвуковій технології насадки. Розпилений матеріал спочатку в рідкому стані, який може бути розчином, соль, суспензією тощо. Рідина з покриттям атомізується в невеликі частинки пристроєм ультразвукової атомізації, а потім рівномірно покритою на поверхні підкладки на певну кількість газу -носія, тим самим утворюючи плівку для покриття або покриття. Порівняно з традиційним пневматичним подвійним розпиленням рідини, обприскування ультразвукової атомізації має кращу рівномірність, тоншу товщину покриття та більшу точність. Тим часом, оскільки ультразвукові форсунки не потребують тиску повітря для атомізації, використання ультразвукового розпилення може значно зменшити процес розпилення сировини, досягнення мети збереження сировини. Покриття, розпорошених ультразвуковим обприскуванням, більше ніж у чотири рази більше, ніж у традиційних двох розпилювальних рідин.
Ультразвукові форсунки використовують п'єзоелектричні перетворювачі для перетворення високочастотних звукових хвиль у механічну енергію для поздовжньої високочастотної вібрації. Рідка хвиля простягається вгору від кінчика ультразвукової насадки, поки вона не буде відокремлена на краплі рівномірного розміру. Вторинний формування газу або навколишнє повітря може легко загорнути крапельки у потрібну форму та швидкість, тим самим досягаючи різних застосувань для розпилення.
Китай став головним глобальним виробником сонячних клітин. У 2006 році національне виробництво сонячних клітин становило 438 МВт, а в 2007 році національне виробництво сонячних батарей - 1188 МВт. Китай став найбільшим у світі виробником сонячних батарей, перевершивши Європу та Японію. Виробництво продовжувало зростати в 2008 році, досягаючи 2 мільйонів кіловат.
Сонячні фотоелектричні клітини (ПВ -клітини коротко) використовуються для безпосереднього перетворення легкої енергії з сонця в електричну енергію. Велика кількість сонячних батарей на основі кремнію використовується в наземних фотоелектричних системах, які можна розділити на монокристалічний кремній, полікристалічний кремній та аморфні сонячні клітини кремнію. З точки зору ефективності перетворення енергії та терміну служби, монокристалічні кремнію та полікристалічні кремнієві клітини перевершують аморфні кремнієві клітини.
Застосовується до фотоелектричних клітинних покриттів:
Ультразвукова технологія розпилення може успішно осаджувати анти відбиваючі шари, покриття TCO, покриття буферних шарів, PEDOT та активні шари у виробництві тонких плівок та сонячних батарей перовскіту. OPV, CIG, CDTE, CZT, Perovskite та DSC - це деякі розчини та суспензії, які можуть бути осаджені при підготовці тонких плівкових сонячних батарей за допомогою ультразвукової технології мокрого розпилення. Ультразвукова система розпилення знижує вартість виготовлення тонких фільмів сонячних батарей, при цьому забезпечуючи високу ефективність клітин.
Переваги покриття для фотоелектричних клітин:
1. Шаблони розпилення легко утворюватися і підходять для застосування покриття на сонячних батареях.
2. Розпилення покриття будь -якої форми може утворювати рівномірне покриття на рівні мікрометра.
3. Ультразвукова насадка не заблокована
4. Лазерне позиціонування, швидко вирівняйте з положенням розпилення
5. Коефіцієнт конверсії розчину більше або дорівнює 95%
